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本发明公开了一种等离子密度可调的离子源装置,包括离子源腔、放电腔、螺旋线圈、平面线圈和射频电源;离子源腔和放电腔从外至内依次同轴设置;放电腔的头部设置有进气面板;螺旋线圈同轴套设在放电腔的筒身外周,两者间具有径向间隙R;平面线圈同轴安装在进气面板的外侧上游,两者间具有轴向间隙L;螺旋线圈和平面线圈的一端均依次与功率分配器、射频匹配器和射频电源电连接,另一端均接地;功率分配器能对进入螺旋线圈和平面线圈的射频功率进行分配,通过对分配率r进行调节,从而实现放电腔内等离子密度分布的调节。本发明同时采用螺
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114724911 A
(43)申请公布日 2022.07.08
(21)申请号 202110002081.9
(22)申请日 2021.01.04
(71)申请人 江苏鲁汶仪器有限公司
地址 221
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