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本公开实施例涉及一种半导体结构及半导体结构的制备方法、存储器,半导体结构包括:基底;在基底上阵列排布的多个半导体柱组,每个半导体柱组包括相互分立的多个半导体柱,且每个半导体柱具有沟道区以及位于沟道区相对两侧的源漏区;多条位线,每条位线在第一方向上延伸,且与沿第一方向排列的一行半导体柱组的各个半导体柱组中的多个半导体柱的底部源漏区电连接;以及多条字线,每条字线在第二方向延伸,且将沿第二方向排列的一列半导体柱组的各个半导体柱组中的每一沟道区对应的半导体柱侧面包围在内该半导体结构的每个半导体柱组可对应
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114725106 A
(43)申请公布日 2022.07.08
(21)申请号 202210325597.1
(22)申请日 2022.03.29
(71)申请人 长鑫存储技术有限公司
地址 230
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