CMP研磨液及研磨方法.pdfVIP

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2023-05-15 发布于四川
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CMP研磨液及研磨方法.pdf

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本发明的一方面提供一种CMP研磨液，其含有磨粒和阳离子性聚合物，阳离子性聚合物具有：包含氮原子及碳原子的主链、和键合于所述碳原子的羟基。该CMP研磨液还可以含有选自由含氨基的芳香族化合物及含氮杂环化合物组成的组中的至少一种环状化合物。本发明的另一方面提供一种研磨方法，其具备如下工序：使用该CMP研磨液来研磨被研磨材料。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114729258 A (43)申请公布日 2022.07.08 (21)申请号 202180006440.6 小峰真弓　吴珍娜　高桥寿登　 (22)申请日 2021.02.