一种半导体废气处理四方后段冷却装置及冷却方法.pdfVIP

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2023-05-15 发布于北京
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一种半导体废气处理四方后段冷却装置及冷却方法.pdf

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本发明公开了一种半导体废气处理四方后段冷却装置及冷却方法，属于半导体废气冷却装置技术领域，因为是高温气体进而会上流至顶盖内，并带动风扇旋转进行发电，通过顶降温板进行降温处理后液体和低温气体回流至中空方管内，然后液体落入至推拉网板进行聚集，对于温度比较低的气体则直接通过中空方管进而出现顶盖与中空方管的组合将不同温度的气体进行分流的结构，水聚集在推拉网板在压力下打开单向阀流出然后通过调节弹簧复位，依据需要进行降温处理的气体需求可启动升降电机调节螺杆转动，进而带动升降滑块运动调节降温过滤网的角度对气体

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114733278 A (43)申请公布日 2022.07.12 (21)申请号 202210235454.1 (22)申请日 2022.03.11 (71)申请人崔汉宽地址 201315 上海市