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本发明涉及一种原子层沉积装置,用于将目标材料层区域选择性地沉积在衬底表面的沉积区域上,该衬底表面还包括非沉积区域。在使用中,衬底沿着多个沉积空间和隔离剂空间传送,所述多个沉积空间和隔离剂空间包括至少两个气体隔离剂空间,所述气体隔离剂空间至少提供有隔离剂气体入口和隔离剂排放部,用于在使用中使衬底暴露于隔离剂气流。其中所述气体隔离剂空间中的至少一个形成组合的隔离剂‑抑制剂气流,所述组合的隔离剂‑抑制剂气流包括隔离剂气体和抑制剂成分。所述抑制剂成分选择性地粘附到所述非沉积区域以形成抑制层,减少前体成分
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114729445 A
(43)申请公布日 2022.07.08
(21)申请号 202080078814.0 保卢斯 ·威力布罗德斯 ·乔治 ·波
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