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本申请提供一种匀胶系统，涉及光刻工艺技术领域。其中，该匀胶系统包括：光源、投影卡具和底座；所述光源用于投射光线；所述投影卡具位于所述光源的下方；所述底座位于所述投影卡具的正下方，用于固定并以中心直线为轴线旋转所述基片；所述光源照射所述投影卡具后的投影映在所述底座的上表面，且所述投影的轮廓的形状和大小分别对应于所述基片，用于所述基片的定位；其中，所述中心直线穿过所述底座的中心并与所述底座的上表面垂直。本申请技术方案可以实现基片的无接触且快速对中操作，能够解决基片对中时需要使用夹具，容易划伤基片的技
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114721224 A
(43)申请公布日 2022.07.08
(21)申请号 202210262041.2 G02B 27/36 (2006.01)
(22)申请日 2022.03.
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