一种磁控溅射旋转靶材.pdfVIP

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本发明公开了一种磁控溅射旋转靶材,包括旋转靶材本体、底座,所述旋转靶材本体设置在底座上,所述底座的侧壁与所述旋转靶材本体之间设置有第一弹簧,所述第一弹簧的一端与所述旋转靶材本体的侧壁连接,所述第一弹簧的另一端与所述底座的内侧壁连接,底座下端设置有防震板,所述底座与所述防震板之间设置有减震机构,所述减震机构包括减第二弹簧、连接架、螺杆,第二弹簧上下两端通过连接架设置在底座与防震板上,所述连接架靠近底座和防震板的一端设置有螺杆,底座和防震板上设置有与螺杆配合的螺孔。本发明通过防震板与减震机构的设置,

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114737160 A (43)申请公布日 2022.07.12 (21)申请号 202110018161.3 (22)申请日 2021.01.07 (71)申请人 研创应用材料(赣州)股份有限公司 地

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