基于晶片的光源参数控制.pdfVIP

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2023-05-16 发布于北京
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基于晶片的光源参数控制.pdf

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本公开涉及基于晶片的光源参数控制。例如，一种光刻方法包括从光源产生脉冲光束；使脉冲光束跨光刻曝光设备的衬底扫描以用脉冲光束曝光衬底，包括用脉冲光束曝光衬底的每个子区域。子区域是衬底的整个区域的一部分。对于衬底的每个子区域，接收与衬底的子区域相关联的光刻性能参数；分析所接收的光刻性能参数，并且基于该分析，修改脉冲光束的第一光谱特征，并且保持脉冲光束的第二光谱特征。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114755893 A (43)申请公布日 2022.07.15 (21)申请号 202210210593.9 (22)申请日 2017.10.04 (30)优先权数据