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本发明公开了一种等离子体增强化学气相沉积设备,涉及半导体薄膜制备技术领域,包括反应室、可控加热模块、马弗、晶舟和气体输送管道,可控加热模块用于控制反应室内部的反应温度,马弗设置于反应室内,马弗的内侧为均匀热区,晶舟设置于均匀热区内,晶舟包括若干连接电极的石墨舟片,舟片上放置有晶圆衬底;气体输送管道用于向反应室内注入反应气体,反应室还通过抽气管道连接真空泵;本发明中的等离子体增强化学气相沉积设备,具有热场均匀性和反应气体有效成分均匀性高的特征,产品一致性好。另外,产生等离子体的射频电极为三相,不会
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114752922 A
(43)申请公布日 2022.07.15
(21)申请号 202210384681.0
(22)申请日 2022.04.13
(71)申请人 中普(浙江)智能装备有限公司
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