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本发明提供了一种环栅器件上源漏可控限制外延的方法,包括:在衬底上形成沿第一方向排列的若干鳍结构,在所述若干鳍结构上形成沿第二方向排列的若干假栅结构,且每个假栅结构横跨所述若干鳍结构中的每个鳍结构;刻蚀所述鳍结构形成若干源/漏空腔;在相邻鳍结构之间形成沿所述第一方向排列的第一隔离层,以隔离相邻鳍结构之间的源/漏空腔;在所述源/漏空腔中外延源/漏层;去除所述第一隔离层。使得所述源/漏层的厚度可以限制在应力释放的临界厚度内,以实现减少因失配错位导致的应力弛豫现象;当然地,通过对所述源/漏层厚度的限制,
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114783877 A
(43)申请公布日 2022.07.22
(21)申请号 202210198169.7 H01L 29/08 (2006.01)
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