图案化方法.pdfVIP

下载本文档

0
0
约3.68万字
约 43页
2023-05-16 发布于四川
举报
版权申诉

图案化方法.pdf

1、本文档共43页，其中可免费阅读42页，需付费10金币后方可阅读剩余内容。
2、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。
3、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
4、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

根据一个方面，提供了一种图案化方法，其包含：在下部图案记忆层上，形成第一上部阻挡的图案，然后形成上部图案记忆层，然后形成第二上部阻挡的图案；随后，使用光刻和蚀刻在上部图案记忆层中图案化上沟槽，并沿上沟槽的侧壁形成间隔线，以限定提供间隔的上沟槽，至少一个子集被相应的第一上部阻挡中断；通过将提供间隔的上沟槽蚀刻到下部图案记忆层中，在下部图案记忆层中形成第一下沟槽，第一下沟槽的至少一个子集被保留在由第一上部阻挡中的相应阻挡限定的位置处的下部图案记忆层部分中断；随后，形成辅助沟槽掩模堆叠体并使用光刻和蚀

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114765106 A (43)申请公布日 2022.07.19 (21)申请号 202111229032.5 (22)申请日 2021.10.21 (30)优先权数据 8 2021