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根据一个方面,提供了一种图案化方法,其包含:在下部图案记忆层上,形成第一上部阻挡的图案,然后形成上部图案记忆层,然后形成第二上部阻挡的图案;随后,使用光刻和蚀刻在上部图案记忆层中图案化上沟槽,并沿上沟槽的侧壁形成间隔线,以限定提供间隔的上沟槽,至少一个子集被相应的第一上部阻挡中断;通过将提供间隔的上沟槽蚀刻到下部图案记忆层中,在下部图案记忆层中形成第一下沟槽,第一下沟槽的至少一个子集被保留在由第一上部阻挡中的相应阻挡限定的位置处的下部图案记忆层部分中断;随后,形成辅助沟槽掩模堆叠体并使用光刻和蚀
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114765106 A
(43)申请公布日 2022.07.19
(21)申请号 202111229032.5
(22)申请日 2021.10.21
(30)优先权数据
8 2021
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