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本发明涉及一种用于实现局灶性TMS干预的磁场屏蔽装置,包括上层硅钢板层、中层坡莫合金板层和下层隔热层,中间设有上下贯通的中孔。与现有技术相比,本发明构建外层不易饱和高导磁材料(硅钢),联合内层易饱和高导磁材料(坡莫合金)所制作的复合磁屏蔽材料,可实现TMS磁场的屏蔽,而通过该复合磁屏蔽材料中心打孔,也可在不改变中心区域磁场强度及感应电场强度的情况下,进一步实现打孔区域的局部TMS刺激。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114748795 A
(43)申请公布日 2022.07.15
(21)申请号 202110028208.4
(22)申请日 2021.01.08
(71)申请人 复旦大学附属华山医院
地址 200
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