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本申请公开了一种表面图案化的多孔单晶材料及其制备方法和应用,所述表面图案化的多孔单晶材料中含有10nm~1000nm的孔。本申请中所述材料具有自支撑结构,为块状单晶时,作为一种新材料,在催化或基件材料中都有潜在的应用。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114763624 A
(43)申请公布日 2022.07.19
(21)申请号 202110048643.3 C30B 29/18 (2006.01)
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