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本发明涉及一种抛光垫、抛光垫的制备方法及半导体器件的制造方法,所述抛光垫在抛光层内形成多个均匀的气孔,调节抛光层的抛光面的表面粗糙度特性,因此能够提高进行抛光工艺时与半导体基板直接接触的面积,防止半导体基板的表面出现缺陷。另外,本发明可以提供一种应用所述抛光垫的半导体器件的制造方法。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114762953 A
(43)申请公布日 2022.07.19
(21)申请号 202111596533.7 B24B 37/34 (2012.01)
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