用于具有高平坦化效率的化学机械抛光垫的配制品及用其制成的CMP垫.pdfVIP

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2023-05-16 发布于北京
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用于具有高平坦化效率的化学机械抛光垫的配制品及用其制成的CMP垫.pdf

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由包含以下项的反应混合物的聚氨酯反应产物制成的CMP抛光垫或层：(i)液体芳族异氰酸酯组分，其包含一种或多种芳族二异氰酸酯或线型芳族异氰酸酯封端的氨基甲酸酯预聚物，和(ii)液体多元醇组分，其包含a)一种或多种聚合物多元醇，b)基于该液体多元醇组分的总重量12wt.％至40wt.％的具有2至9个碳原子的一种或多种小链双官能多元醇、液体芳族二胺的固化剂混合物，其中液体芳族二胺与小链双官能多元醇和液体芳族二胺的总摩尔数的摩尔比是15∶85至40∶60，其中，该反应混合物包含48wt.％至68wt.％

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114770369 A (43)申请公布日 2022.07.22 (21)申请号 202210057231.0 B24B 37/22 (2012.01)