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实施方式关于减少半导体基材中的电荷的方法。此方法包含沉积光阻于半导体基材上,以形成光阻层于半导体基材上。将光阻层曝光于辐射。使用显影剂溶液来显影光阻层。使用第一清洁液体来清洁半导体基材,以从光阻层洗去显影剂溶液。对半导体基材施加四甲基氢氧化铵溶液,以减少累积在半导体基材中的电荷。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114765105 A
(43)申请公布日 2022.07.19
(21)申请号 202110744390.3 H01L 21/033 (2006.01)
(22)申请日 2021.07
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