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整体上确保高蚀刻速率，同时实现基板整体的蚀刻量分布的均匀化。基板处理方法包括一边使基板旋转一边向所述基板的表面供给蚀刻液的第一蚀刻工序以及之后进行的第二蚀刻工序。第一蚀刻工序在使处于基板的表面的周缘侧的第二区域的蚀刻量比处于中心侧的第一区域的蚀刻量大的条件下进行，第二蚀刻工序在使第二区域的蚀刻量比第一区域的蚀刻量小的条件下进行。第二蚀刻工序是在通过向基板的背面的中心部供给温度调节用液体来使基板的温度比不供给温度调节用液体的情况下的温度高的条件下进行的。温度调节用液体一边被基板吸取热一边向基板的周
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114787971 A
(43)申请公布日 2022.07.22
(21)申请号 202080085410.4 (74)专利代理机构 北京林达刘知识产权代理事
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