半导体高温用水冷高精度陶瓷吸盘的制造方法及陶瓷吸盘.pdfVIP

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2023-05-16 发布于四川
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半导体高温用水冷高精度陶瓷吸盘的制造方法及陶瓷吸盘.pdf

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本申请属于碳化硅陶瓷技术领域，具体涉及一种半导体高温用水冷高精度陶瓷吸盘的制造方法及陶瓷吸盘，陶瓷吸盘从上到下依次包括吸盘本体、吸盘真空吸附层和吸盘冷却水层，制造方法包括如下步骤：（1）将碳化硅造粒粉体等静压成型获得吸盘本体素坯、吸盘真空吸附层素坯和吸盘冷却水层素坯；（2）根据吸盘尺寸对三种素坯进行加工；（3）对三种素坯进行高温烧结；（4）对高温烧结后样品的外形、尺寸、平面度进行进一步加工，并加工其中的孔道结构至所需尺寸；（5）通过高温焊接或高温胶将吸盘本体、吸盘真空吸附层和吸盘冷却水层固定连接

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114751751 A (43)申请公布日 2022.07.15 (21)申请号 202210405130.8 (22)申请日 2022.04.18 (71)申请人南通三责精密陶瓷有限公司地址 2