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本发明公开了一种低介电聚酰亚胺铜基板及其制备方法,铜基板的介电常数为3.5‑4.1,铜基板的介电损耗为0.002‑0.005,铜基板的热膨胀系数为20‑60(ppm/℃),本发明的铜基板,通过预先加入氰酸脂树脂,形成三嗪环,再与双马来酰亚胺聚合,得到含有三嗪环结构的高交联密度的立体网状结构,实验发现,带有三嗪结构的材料制成的铜基板降低了介电常数和介电损耗,高交联密度结构提高了铜基板的玻璃化转变温度Tg并且降低了热膨胀系数CTE。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114763435 A
(43)申请公布日 2022.07.19
(21)申请号 202110374856.5 B32B 15/18 (2006.01)
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