磁性材料溅射靶.pdfVIP

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2023-05-17 发布于北京
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磁性材料溅射靶.pdf

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本发明涉及磁性材料溅射靶。一种溅射靶，其为具有含有Fe的金属基质相、和形成粒子并分散存在的非磁性相的溅射靶，其特征在于，非磁性相含有0.1～40摩尔％的C，所述溅射靶的X射线衍射的单峰之中强度最高的衍射峰的积分宽度为0.8以下。本发明提供一种非磁性材料粒子分散型溅射靶，其通过抑制溅射时的初始粉粒的产生从而减少预烧时间，并且在溅射时可得到稳定的放电。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114807874 A (43)申请公布日 2022.07.29 (21)申请号 202210309573.7 (22)申请日 2015.03.13 (30)优先权数据