IGBT沟槽工艺掩模版专用装置及使用方法.pdfVIP

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2023-05-17 发布于四川
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IGBT沟槽工艺掩模版专用装置及使用方法.pdf

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本发明涉及提供一种IGBT沟槽工艺掩模版专用装置及使用方法，该装置包括夹具本体、凸台、取放版沟槽以及吸气沟槽。本申请提供的上述方案，当掩模版放置到该装置上后，掩模版的四个拐角与对应的四个凸台抵接，此时，掩模版上的有效图形区整体处于非接触状态，从而将掩模版的吸附位置由玻璃面的有效图形区转移到四个角上的非关键质量区域，有效避免了对有效图形区玻璃面的划伤问题，同时解决了制作掩模版吸附时背面颗粒导致平整度变形的问题；进一步地，该装置可以通过取版夹具装卸掩模版，避免了手工取放掩模版导致的掩模版脏污问题。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114815518 A (43)申请公布日 2022.07.29 (21)申请号 202210445298.1 (22)申请日 2022.04.26 (71)申请人深圳市龙图光电有限公司地址 51