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本发明实施例涉及半导体结构及用于形成隔离结构的方法。根据本发明的一些实施例,一种半导体结构包含半导体衬底、图像传感器及隔离结构。所述隔离结构相邻于所述图像传感器且放置于所述半导体衬底中。所述隔离结构包含:第一氧化物层;第二氧化物层,其在所述第一氧化物层上方;及电荷俘获层,其放置于所述第一氧化物层与所述第二氧化物层之间。所述电荷俘获层包含不同于所述第一氧化物层及所述第二氧化物层的材料的材料。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114823757 A
(43)申请公布日 2022.07.29
(21)申请号 202210088902.X
(22)申请日 2022.01.25
(30)优先权数据
17/206,572 2021
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