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本发明属于集成电路的静电泄放保护电路的设计领域,特别涉及一种利用分割技术的高维持电压的LDMOS‑SCR器件结构,包括p型硅衬底;p型硅衬底上形成n型的埋层区;n型的埋层区上从左到右分别形成一个p型深阱区、一个n型深阱区,且n型深阱区邻接所述p型深阱区;n型深阱区内从左到右依次设有n型的重掺杂区、p型的重掺杂区且所述n型的重掺杂区和p型的重掺杂区与阳极相连;p型深阱区内由从前到后交错设置的多个p型的重掺杂区和n型的重掺杂区,p型的重掺杂区和n型的重掺杂区与阴极连接;本发明阴极的p型重掺杂区和n型
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114823909 A
(43)申请公布日 2022.07.29
(21)申请号 202210394899.4
(22)申请日 2022.04.15
(71)申请人 中国电子科技集团公司第二十四研
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