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本申请涉及形成微电子装置的方法,和相关微电子装置、存储器装置和电子系统。所述形成微电子装置的方法包括形成包括布置成层次的竖直交替的绝缘结构和导电结构的堆叠结构。所述层次中的每一个个别地包括所述绝缘结构中的一个和所述导电结构中的一个。牺牲材料形成于所述堆叠结构之上且柱结构形成为竖直延伸穿过所述堆叠结构和所述牺牲材料。所述方法包括:在所述柱结构的上部部分内形成导电插塞结构;形成竖直延伸穿过所述堆叠结构和所述牺牲材料的狭槽;至少部分地去除所述牺牲材料以形成水平插入在所述导电插塞结构之间的开口;和在所述
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114823496 A
(43)申请公布日 2022.07.29
(21)申请号 202210094004.5 H01L 27/11548 (2017.01)
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