一种导热均匀且喷射范围可调的蒸发源.pdfVIP

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2023-05-17 发布于北京
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一种导热均匀且喷射范围可调的蒸发源.pdf

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本发明公开了一种导热均匀且喷射范围可调的蒸发源，属于真空蒸镀领域，包括底座，所述底座的上侧设有外罩，所述外罩的内侧可拆卸设有坩埚，所述外罩的内壁且对应坩埚的底壁位置处设有称重器，所述坩埚包括外筒和内筒，所述外罩的内部还设有加热器；所述加热器包括设置第一电热圈和第二电热圈，所述第一电热圈设置在外筒的外侧，所述第二电热圈设置在内筒的内侧，所述内筒的内侧和内筒的外侧之间共同形成放置腔，放置腔用于存放镀膜材料。本发明对镀膜材料加热更加均匀，提升蒸发速率，可根据不同尺寸的基片调节镀膜材料的喷射范围，另外，

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114807864 A (43)申请公布日 2022.07.29 (21)申请号 202210404494.4 (22)申请日 2022.04.18 (71)申请人兰州交通大学地址 730070