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本发明涉及半导体光电器件的技术领域,特别涉及一种半导体激光元件,从下至上依次包括衬底、n层包覆层、下波导层、有源层、上波导层、电子阻挡层、p型包覆层和p型半导体,其中有源层为InbGa1‑bN/IncAldGa1‑c‑dN,n型包覆层至少具有3层Al梯度层AleGa1‑eN/AlfIngGa1‑f‑gN/AlhGa1‑hN,n型包覆层之间具有Al组分梯度且与有源层间亦形成Al组分梯度:Al组分e>h>f≥d,AlfIngGa1‑f‑gN与有源层、上波导层、下波层形成的In组分梯度构成In组分梯度
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114825048 A
(43)申请公布日 2022.07.29
(21)申请号 202210366900.2
(22)申请日 2022.04.08
(71)申请人 安徽格恩半导体有限公司
地址 23
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