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本发明提供一种能够抑制在基板上形成的图案的形状异常的基板处理方法和基板处理装置。基板处理方法具有如下工序:工序a,在该工序a中,提供具备蚀刻对象膜、在蚀刻对象膜上形成的第1掩模、以及第2掩模的基板的工序,该第2掩模形成于第1掩模上,膜种与第1掩模的膜种不同,具有开口;工序b,在该工序b中,相对于第2掩模选择性地蚀刻第1掩模、形成第1掩模的至少局部的开口尺寸比第2掩模的底部的开口尺寸大的开口的工序;以及工序c,在该工序c中,蚀刻蚀刻对象膜的工序。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114823329 A
(43)申请公布日 2022.07.29
(21)申请号 202210071088.0
(22)申请日 2022.01.21
(30)优先权数据
2021-013072 202
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