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本申请的实施例涉及制造半导体器件的方法和系统。对于制造半导体器件的方法,相应的布局图存储在非暂时性计算机可读介质上,布局图相对于第一和第二垂直方向布置,布局图包括单元,使得对于单元的子集,子集中的单元中的每个主题(主题单元)具有邻域,该邻域包括在主题单元相对于第一方向的相应第一侧和第二侧上的第一接近单元和第二接近单元。该方法包括:对于子集中的每个主题单元,生成表示接近特性邻近效应信息的副文件。对于单元子集中的每个单元,生成副文件包括与由第一接近单元引起的单元间邻近效应相相应的第一接近特性邻近效应
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114818584 A
(43)申请公布日 2022.07.29
(21)申请号 202210091835.7
(22)申请日 2022.01.26
(30)优先权数据
63/143,539 2021
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