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本发明涉及半导体设备技术领域,提供了一种气体传输装置、方法和半导体沉积设备。气体传输装置包括:进气传输单元和喷淋头,进气传输单元包括第一进气管道、第二进气管道、连通管道和截止阀,第一进气管道与第二进气管道之间设置连通管道,连通管道上设置截止阀;喷淋头分为第一喷淋分区和第二喷淋分区,第一喷淋分区与第一进气管道连接,第二喷淋分区与第二进气管道连接,第一喷淋分区和第二喷淋分区之间彼此独立不互通。通过设置独立进气管道和喷淋分区,控制进入各管道的气体,解决了反应腔室内气体分布不均的技术问题,达到了提高薄膜
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114774887 A
(43)申请公布日 2022.07.22
(21)申请号 202210707996.4
(22)申请日 2022.06.22
(71)申请人 拓荆科技(北京)有限公司
地址 1
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