半导体结构及其形成方法.pdfVIP

下载本文档

0
0
约3.5万字
约 46页
2023-05-17 发布于北京
举报
版权申诉

半导体结构及其形成方法.pdf

1、本文档共46页，其中可免费阅读45页，需付费10金币后方可阅读剩余内容。
2、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。
3、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
4、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

本文公开了半导体结构及其制造方法。在一实施例中，示例性的半导体结构包括多个第一通道构件在基板上方；第一栅极结构包绕每个所述第一通道构件；以及介电鳍片结构相邻设置于第一栅极结构，介电鳍片结构包括：第一介电层设置在基板上方并与第一栅极结构直接接触；第二介电层设置在第一介电层上方；第三介电层设置在第二介电层上方，并且通过第二介电层与第一介电层以及第一栅极结构间隔开；及第一隔离部件设置在第三介电层正上方。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114823523 A (43)申请公布日 2022.07.29 (21)申请号 202210198659.7 (22)申请日 2022.03.02 (30)优先权数据 63/156,494 2021