一种方形片的抛光工艺.pdfVIP

下载本文档

3
0
约7.7千字
约 8页
2023-05-17 发布于北京
举报
版权申诉

一种方形片的抛光工艺.pdf

1、本文档共8页，其中可免费阅读7页，需付费10金币后方可阅读剩余内容。
2、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。
3、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
4、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

本发明公开了一种方形片的抛光工艺。本发明抛光工艺减少了一次抛光的时间，减少一次抛光的加工厚度，用一次抛光对方形片毛坯快速抛光，得到半成品；增加二次抛光的时间及加工量，配合组合式游星轮对方形片进行TTV的改善；添加三次抛光，在不影响TTV的同时对方形片的表面进行微加工，提高表面的额清洁度。本发明二次抛光和三次抛光使用抛光用组合游星轮对其进行抛光，使产品与抛光皮的摩擦均匀，减小同一片产品的厚度散差，提高产品的合格率。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114800055 A (43)申请公布日 2022.07.29 (21)申请号 202210457552.X (22)申请日 2022.04.28 (71)申请人浙江美迪凯光学半导体有限公司地址