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本公开的实施例涉及碳化硅竖直导电MOSFET装置及其制造方法。一种竖直导电MOSFET装置包括具有第一导电类型和表面的碳化硅本体。金属化区域在本体的表面上延伸。第二导电类型的本体区域在本体中从本体的表面沿平行于表面的第一方向且沿垂直于表面的第二方向延伸。第一导电类型的源极区域从本体的表面朝向本体区域的内部延伸。源极区域具有第一部分和第二部分。第一部分具有第一掺杂水平且与金属化区域直接电接触地延伸。第二部分具有第二掺杂水平且与源极区域的第一部分直接电接触地延伸。第二掺杂水平低于第一掺杂水平。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114823905 A
(43)申请公布日 2022.07.29
(21)申请号 202210105281.1 H01L 29/45 (2006.01)
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