绒面结构、包含其的单晶硅片、制绒方法及应用.pdfVIP

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2023-05-17 发布于北京
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绒面结构、包含其的单晶硅片、制绒方法及应用.pdf

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本发明涉及单晶硅电池制造领域，尤其涉及一种绒面结构，所述绒面结构包含随机分布且呈八棱锥结构的单体制绒结构，其底面呈八边形，且位于底面以上部分呈八棱锥形。本发明克服了现有技术中普通四面体的金字塔结构的比表面积较小，导致其光程较短，反射率较高，陷光效果较差的缺陷。本发明中的绒面结构中包含有呈八棱锥结构的单体制绒结构，因此在底面面积一致的前提下，其八棱锥结构的表面积能够得到有效的提升，从而增加了光程，降低了对于光线的反射率，使得该绒面结构对于光线的陷光效果更好。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114823943 A (43)申请公布日 2022.07.29 (21)申请号 202210281252.0 (22)申请日 2022.03.22 (71)申请人湖州飞鹿新能源科技