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提供一种沟槽型MESFET(1),具备:n型半导体层(11),其包括Ga2O3系单晶,具有在一个面(19)上开口的多个沟槽(12);绝缘体(14),其埋入于多个沟槽(12)各自的底部;栅极电极(13),其埋入于多个沟槽(12)各自的绝缘体(14)上,在其侧面与n型半导体层(11)接触;源极电极(16),其连接到n型半导体层(11)的相邻的沟槽(12)之间的台面形状部(18);绝缘体(15),其埋入于多个沟槽(12)各自的栅极电极(13)上,将栅极电极(13)与源极电极(16)绝缘;以及漏极电极(
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114846590 A
(43)申请公布日 2022.08.02
(21)申请号 202080090078.0 (74)专利代理机构 北京市隆安律师事务所
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