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本发明公开了一种相变存储器单元及其制备方法,相变存储器单元自下而上包括对应设置的第一电极、相变单元和第二电极,所述相变单元被配置为纵向的柱形结构,所述柱形结构由内向外包括依次连接的相变材料层、阻挡层和选择器件层;其中,所述第一电极与所述选择器件层连接,所述第二电极与所述相变材料层连接,所述选择器件层包括纵向设置的二维晶体二极管层。本发明通过凹槽填充方式制备具有环形嵌套结构的柱形相变单元,可提高器件的性能和可靠性,并通过采用二维晶体二级管层形成选择器件层,利用其具有的较低阈值电压,能有效降低器件功
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114864813 A
(43)申请公布日 2022.08.05
(21)申请号 202210326647.8
(22)申请日 2022.03.30
(71)申请人 上海集成电路研发中心有限公司
地址
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