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本发明公开了一种氮化镓器件台面的制作方法,包括:在GaN外延层的第一表面设置掩模;利用所述掩模对GaN外延层的第一表面进行离子注入,并在GaN外延层内形成高掺区;采用电化学腐蚀方法,对所述的高掺区进行腐蚀,并在高掺区内形成隔离槽,该隔离槽将所述的GaN外延层分隔成多个台面。本发明避开了传统的干法刻蚀工艺,采用离子注入加电化学腐蚀,制备出的台面可以避免侧壁损伤引入和侧壁悬挂键的产生,减少侧壁非辐射复合中心和降低反向漏电流,从而提高器件性能。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114883455 A
(43)申请公布日 2022.08.09
(21)申请号 202210343311.2
(22)申请日 2022.04.02
(71)申请人 中国科学院苏州纳米
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