蒸发源装置.pdfVIP

下载本文档

0
0
约1.08万字
约 10页
2023-05-19 发布于四川
举报
版权申诉

蒸发源装置.pdf

1、本文档共10页，其中可免费阅读9页，需付费10金币后方可阅读剩余内容。
2、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。
3、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
4、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

本发明提供一种蒸发源装置，包括真空室以及位于真空室内的基座、至少一个真空盒、至少一个控制阀门；至少一个真空盒设置于基座上，真空盒内设置有坩埚；真空盒与控制阀门连接；控制阀门包括相对设置的第一管口和第二管口，第一管口与真空盒相连通，第二管口与真空室相连通；本发明通过将坩埚设置于真空盒内，可以阻挡飞溅的原料蒸镀至基板，通过使真空盒内产生的蒸镀源通过控制阀门进入真空室内，可以通过改变控制阀门的开合程度，从而控制蒸气流量，从而在蒸发镀膜过程中时刻控制镀膜的厚度，提高镀膜质量；还可以使原料均匀反应，避免产

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114875364 A (43)申请公布日 2022.08.09 (21)申请号 202210522023.3 (22)申请日 2022.05.13 (71)申请人武汉华星光电半导体显示技术有限