包含半导体布局以减轻局部布局效应的设备.pdfVIP

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2023-05-19 发布于四川
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包含半导体布局以减轻局部布局效应的设备.pdf

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公开包含半导体布局以减轻局部布局效应的设备。一种实例设备包含多个标准单元，每一单元包含：有源区；隔离区，其邻近所述有源区；及第一栅极结构，其经安置在所述有源区及所述隔离区上。所述第一栅极结构包含：第一栅极部分，其经安置在所述有源区上；及第一接触部分，其经安置在所述隔离区上。所述设备进一步包含安置在所述有源区及所述隔离区上的第二栅极结构。所述第二栅极结构包含：第二栅极部分，其经安置在所述有源区上；及第二接触部分，其经安置在所述隔离区上。在所述设备中，第一接触点与所述第一栅极部分之间的距离基本上等于

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114883318 A (43)申请公布日 2022.08.09 (21)申请号 202210069933.0 (22)申请日 2022.01.21 (30)优先权数据 17/169,189 2021