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2023-05-19 发布于四川
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真空镀膜系统.pdf

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本发明提供一种真空镀膜系统，属于镀膜设备技术领域。真空镀膜系统，包括真空镀膜室和刻蚀装置；刻蚀装置包括相对设置于真空镀膜室内的第一刻蚀机构和第二刻蚀机构，第一刻蚀机构包括第一刻蚀组件和第一阳极，第二刻蚀机构包括第二刻蚀组件和第二阳极；第一刻蚀组件与真空镀膜室的侧壁相连接，第一阳极设置于真空镀膜室内，且位于第一刻蚀组件的前端；第二刻蚀组件与真空镀膜室的顶壁相连接，第二阳极与真空镀膜室的底壁相连接，且与第二刻蚀组件相对设置。通过在真空镀膜室内相对设置的第一刻蚀机构和第二刻蚀机构能够形成覆盖率更大的刻

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114855118 A (43)申请公布日 2022.08.05 (21)申请号 202210675641.1 (22)申请日 2022.06.15 (71)申请人沈阳爱科斯科技有限公司地址 11