一种超表面光学元件的制作方法.pdfVIP

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2023-05-19 发布于四川
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一种超表面光学元件的制作方法.pdf

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本申请实施例公开了一种超表面光学元件的制作方法，包括：在衬底的端面之上镀纳米材料，使得纳米材料覆盖衬底的完整端面；刻蚀部分纳米材料至衬底的端面，保留另一部分纳米材料，得到分立纳米柱结构；在分立纳米柱结构的间隙填充保护材料；刻蚀分立纳米柱结构间隙的保护材料，使得每个间隙的保护材料的高度均匀并小于分立纳米柱结构的高度，得到超表面光学元件。本申请通过在分立纳米柱结构的间隙镀保护材料，增强纳米柱结构的机械稳定性；控制保护材料的高度小于纳米柱的高度，保证上半部分裸露纳米柱结构和周围环境相对折射率差；在纳米

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114873556 A (43)申请公布日 2022.08.09 (21)申请号 202210530855.X B82Y 40/00 (2011.01) (22)申请日 2022.05.