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本发明涉及新材料技术领域，具体为一种铜钠溅射靶材及制备装置和方法，包括主仓、混料机构、加压冷却机构和真空机构，所述主仓的一端通过转轴连接有门板，所述主仓的内部设置有保温隔热垫，所述第一固定件的中部设置有螺纹杆，所述螺纹杆的一端通过螺纹连接有螺纹转盘，所述门板的一侧固定连接有密封垫，所述主仓的一端设置有控制柜。本装置工序较少，原料采集方便且成本较低，进而适用于大批量的生产，本装置操作简单方便，可减少用户的工作量，在混粉的同时进行抽真空可进一步的节约工作时间，进而的提高生产效率，降低用户的生产成本，
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114855133 A
(43)申请公布日 2022.08.05
(21)申请号 202210654461.5 B01F 101/26 (2022.01)
(22)申请日 2022.06
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