一种铜箔及其制备方法和应用.pdfVIP

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2023-05-19 发布于北京
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一种铜箔及其制备方法和应用.pdf

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本发明公开了一种铜箔及其制备方法和应用。本发明的铜箔的制备方法，包括以下步骤：1)向铜盐、硫酸和添加剂加水分散，制成电解液；2)将阴极和阳极插入电解液，再采用双脉冲叠加电流或单脉冲‑直流叠加电流进行电沉积，即可在阴极上沉积得到铜箔。本发明的铜箔的厚度为3μm～6μm；抗拉强度为430N/m2～550N/m2；延伸率为3.8％～8.0％；室温电阻率为1.9×10‑8Ω·m～2.2×10‑8Ω·m；具有铜(200)晶面取向择优。本发明的铜箔的制备方法不仅简单、可控、成本低适合大规模生产，而且能够得到

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114875457 A (43)申请公布日 2022.08.09 (21)申请号 202210382317.0 (22)申请日 2022.04.13 (71)申请人广东腐蚀科学与技术创新研究院地址