一种在基于包层紫外光刻的光波导制备方法.pdfVIP

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2023-05-20 发布于北京
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一种在基于包层紫外光刻的光波导制备方法.pdf

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一种基于包层紫外光刻的光波导制备方法，包括以下步骤：在基板上制备下包层；对所述下包层进行预曝光，即在氮气或其他惰性气体环境下对其进行大面积、低能量的紫外曝光；在常规空气环境下，对所述预曝光后的下包层进行紫外光刻；对光刻完成的下包层进行显影，获得光波导对应的凹槽；在显影后的下包层上制备芯层，在氮气或其他惰性气体环境下进行大面积曝光，紫外固化芯层；在固化的芯层上制备上包层，在氮气或其他惰性气体环境下进行大面积曝光，紫外固化上包层。本发明解决了直接紫外光刻过程中的氧阻聚问题，无需在紫外光刻过程中提供氮

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114911003 A (43)申请公布日 2022.08.16 (21)申请号 202210608246.1 (22)申请日 2022.05.31 (71)申请人上海大学地址 200444 上海