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本发明公开了一种Roll‑to‑Roll化学机械抛光装置及方法，该装置包括：抛光机构，用于对待抛光的衬底材料进行抛光；抛光包括：粗抛、半精抛和精抛；检测机构，与抛光机构连接，用于采集完成抛光的衬底材料的表面图像数据；上位机，分别与抛光机构和检测机构连接，用于根据表面图像数据通过神经网络算法生成抛光评价结果，并将抛光评价结果传输给抛光机构；抛光机构还用于根据抛光评价结果调整抛光参数；抛光参数包括衬底材料进料速度、抛光液流量、研抛轮转速、抛光界面压力、气体压力值和冲洗压力值。本发明采用神经网络算法对
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114918817 A
(43)申请公布日 2022.08.19
(21)申请号 202210592386.4 B24B 57/02 (2006.01)
(22)申请日 2022.05.
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