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本发明公开一种基于混合照射的碳膜沉积方法及碳膜，所述碳膜沉积方法包括步骤：提供基片；将基片放置于电子回旋照射系统的真空腔室中，利用氩离子轰击碳靶材的同时进行激光、电子的混合照射或激光、离子的混合照射，在基片上沉积得到碳膜。本发明中利用氩离子轰击碳靶材，使得碳靶材中的碳原子获得能量，进而脱离原子间的束缚，向真空腔室中释放出来，沉积到基片上，而在这个过程中，通过引入激光、电子的混合照射或激光、离子的混合照射，在不需要很高的照射能量或密度的条件下，制备得到具有可控纳晶结构的碳膜，且能够改善碳膜出现剥落
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114921753 A
(43)申请公布日 2022.08.19
(21)申请号 202210451597.6
(22)申请日 2022.04.27
(71)申请人 深圳大学
地址 518060 广
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