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本发明公开了机械手清洗装置、清洗方法及半导体设备,其中清洗装置包括壳体,壳体的腔体自上而下设置有采集区、检测区和清洁区,壳体上设置有分别与采集区、检测区和清洁区连通的开口。采集区设置有采集装置,采集装置用于采集机械手的形状轮廓。检测区设置有扫描装置,扫描装置用于扫描机械手的表面,并对机械手的表面清洁度进行判断;清洁区设置有清洁装置,清洁装置用于对机械手的表面进行清洁,清洁装置包括矩阵分布的多个清洁头,每个清洁头可单独启闭。能进行机械手的自动清洗,清洗效率高。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114904822 A
(43)申请公布日 2022.08.16
(21)申请号 202210332156.4 B25J 19/00 (2006.01)
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