清洗硅片的方法及其装置.pdfVIP

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2023-05-20 发布于北京
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清洗硅片的方法及其装置.pdf

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本申请公开了一种清洗硅片的方法及其装置，包括步骤：用40％‑60％的体积浓度的浓盐酸和去离子水按体积1:4‑1:6配成稀盐酸溶液；将表面发黄的硅片放入稀盐酸溶液内清洗；将清洗完成的硅片取出；本申请通过采用以上步骤清洗硅片，以实现减少返工，且操作步骤简单，在不浪费物料的情况下，提高芯片生产的综合良率。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114914152 A (43)申请公布日 2022.08.16 (21)申请号 202210377683.7 B08B 3/02 (2006.01)