具有聚合物基绝缘材料的半导体器件及其制造方法.pdfVIP

下载本文档

0
0
约2.05万字
约 21页
2023-05-20 发布于北京
举报
版权申诉

具有聚合物基绝缘材料的半导体器件及其制造方法.pdf

1、本文档共21页，其中可免费阅读20页，需付费10金币后方可阅读剩余内容。
2、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。
3、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
4、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

本发明涉及具有聚合物基绝缘材料的半导体器件及其制造方法。半导体器件包括具有第一主表面的半导体衬底和在第一主表面上方的金属结构。金属结构具有包括过渡区段的外围区，金属结构沿着该过渡区段从第一厚度过渡到小于第一厚度的第二厚度。聚合物基绝缘材料接触并覆盖金属结构的至少外围区。聚合物基绝缘材料的厚度在金属结构的背离半导体衬底的第一主表面上开始增加，并且在朝向过渡区段的方向上继续增加。关于金属结构的第一主表面测量的、聚合物基绝缘材料的背向半导体衬底的表面的平均斜度沿着金属结构的外围区小于60度。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114927483 A (43)申请公布日 2022.08.19 (21)申请号 202210129107.0 H01L 23/29 (2006.01)