基底及其形成方法、薄膜功能器件.pdfVIP

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2023-05-20 发布于北京
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基底及其形成方法、薄膜功能器件.pdf

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本申请公开一种基底及其形成方法，一种功能薄膜器件，所述方法包括：提供基板；在所述基板表面形成粘附层；在所述氮化物黏附层表面形成电极层，所述粘附层与所述电极层、所述基板之间的晶格适配率小于等于25％；和/或，所述粘附层与所述电极层、所述基板之间的热失配小于等于15％。上述方法提高电极层与基板之间的粘附性，提高所述电极层的质量。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114906797 A (43)申请公布日 2022.08.16 (21)申请号 202210389455.1 (22)申请日 2022.04.13 (71)申请人上海交通大学地址 200030