一种适用于物理气相沉积工艺的陶瓷绝缘环的清洗方法.pdfVIP

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2023-05-20 发布于北京
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一种适用于物理气相沉积工艺的陶瓷绝缘环的清洗方法.pdf

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本发明公开了一种适用于物理气相沉积工艺的陶瓷绝缘环的清洗方法，涉及陶瓷绝缘环清洗技术领域。包括以下步骤：S1、遮蔽操作；S2、喷砂操作；S3、碱洗操作；S4、水洗操作一；S5、酸蚀操作；S6、水洗操作二；S7、超声处理；S8、检测操作；S9、水洗研磨操作；S10、烘干操作；S11、二次遮蔽操作；S12、二次喷砂操作；S13、二次检测操作；S14、二次超声操作；S15、二次烘干操作。本发明通过对产品进行遮蔽、喷砂、碱洗、水洗研磨、酸蚀、超声以及烘干操作，实现对陶瓷绝缘环的表面的沉积物进行清洗操作，

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114904835 A (43)申请公布日 2022.08.16 (21)申请号 202210485941.3 C23C 14/56 (2006.01) (22)申请日 2022.05.